諾發(fā)系統(tǒng)今天宣布導入次世代超紫外線熱力學制程系統(tǒng)SOLA xT，將其應用在先進的45奈米以下的邏輯元件生產(chǎn)，其利用超紫外線的照射來改善前一道制程鍍上的薄膜特性，這一新系統(tǒng)可監(jiān)控紫外線強度及提供客制化的波長光線組合，因此可將系統(tǒng)延用到多世代。第一套SOLA xT 系統(tǒng)將運送到新加坡的聯(lián)華電子晶圓工廠Fab 12i。

多平臺續(xù)列式制程（MSSP）結(jié)構(gòu)的SOLA可以獨立控制每一單一平臺的溫度、波長和強度，以提供最佳的產(chǎn)品一致性和效率。這種高度可配置的紫外線處理制程比單波長，單溫固化制程可讓超低介電質(zhì)薄膜提高額外百分之二十五的硬度。例如，UVTP用來除去致孔劑，以及提高金屬間層的ULK介質(zhì)膜機械強度，以利于積體元件整合及后續(xù)薄膜處理之包裝和化學機械研磨（CMP步驟）。對于另一種使用spin-on介電薄膜的整合制程會在蝕刻，濕式清洗，光阻灰化過程中受損。在這種情況下，UVTP可通過化學鍵重建修復這種損傷。在前端制程，UVTP還可用來對N型金屬氧化物半導體閘道作應變力誘導晶體通道的設(shè)備。應變力誘導首先是沉積高拉伸應力的介電薄膜，并隨后將其暴露在紫外線更加大其應變力，進而導致增加了元件的性能。

對于上述的所有應用，監(jiān)控設(shè)備的性能健康度和晶圓的性能的一致性，對提高量產(chǎn)生產(chǎn)效率而言是必需的。為了實現(xiàn)這一目標，新的SOLA xT平臺配置紫外線監(jiān)測功能和先進的演驛法，以維持對晶圓上元件的性能均勻度和穩(wěn)定性。客制化的SOLA xT的光學組件對每個四個單一連續(xù)性平臺做紫外線導向的最佳化，可達到晶片內(nèi)部的最佳一致性成果。在連續(xù)式多平臺系統(tǒng)架構(gòu)下，可確保每個晶圓通過相同的通道統(tǒng)計出單一性能分布，相對于競爭對手平臺具有多達4個或6個不同晶圓的路徑，因此統(tǒng)計出晶圓有著許多不同的性能分布。

諾發(fā)系統(tǒng)PECVD產(chǎn)品業(yè)務部高級副總裁凱文詹寧斯說：「新SOLA xT是為了滿足市場所需成熟的UVTP系統(tǒng)，以適合大批量產(chǎn)的32奈米元件， 可獨立控制溫度、紫外線波長及紫外線強度，使SOLA xT能擴展到下一代有可能推出新材料技術(shù)」。

請參訪www.novellustechnews.com，以獲得更多相關(guān)于SOLAUVTP 的資訊。

關(guān)于諾發(fā)系統(tǒng)SOLAR超紫外線熱處理系統(tǒng)
諾發(fā)公司SOLAR超紫外線熱處理系統(tǒng)（UVTP）是用于沉積低介電常數(shù)薄膜后的處理以提高機械和電氣性能。它也被用于前段制程，以提高氮化矽薄膜高強度應力來改善NMOS元件的性能。連續(xù)式多平臺處理架構(gòu)的SOLA平臺同時能提供系卓越的晶圓上均勻性, 晶圓到晶圓均勻性和重復性以及量產(chǎn)的高生產(chǎn)力。